数控疲劳试样低应力纵向抛光机

设备满足 NADCAP AC7101/7D, ASTM E606/E606M X3  有关疲劳试样的加工要求。

主要参数

1. 纵向磨抛，抛光过程无横向动作，砂带下衬橡胶厚度大于5mm，磨抛压力可调可监测，压力不超过2.7kg。

2. 砂带连续自动进给，进给量可调，实现每一砂带区域只磨抛一次。

3. 样品的旋转速度可调，样品磨抛圈数可调。

4. 样品上当前的磨抛砂粒实时清除。

设备技术参数

1. 基本参数

   磨抛功率：400W

   磨抛速度：无级可调

   磨抛行程：＞0-250mm

   工作直径范围：4-25.4mm

   分度范围：0-360°

   机床总功率：1kw

    

2. 磨抛光系统组件：

   1）试件纵向磨抛，砂带自动进给与回收、砂带下衬橡胶滚轮，磨抛压力可调。有压力监测和压力调节

   2）砂带放料系统采用胀拉力调节功能。

   3）砂带收料系统、伺服扭力输出检测，补偿功能。

    

3. 试件定位夹紧系统：

   1）双顶使用气动三爪装置中孔回转缸夹紧，快速拆卸更换。

   2）试样使用中孔定位双顶快速装夹，带防滑。

    

    

4. 动力头纵向进给系统：

   1）伺服控制，具有快进、工进、快退功能，进给速度可设置调整。

   2）研磨级丝杆进退系统，运行平稳持久、维持调整更换方便。

    

5. 动力头回转系统：

   1）采用台达伺服马达配备同步齿形皮带传动，传动平稳、节能。

   2）动力头采用迷宫式防尘设计，避免抛光粉尘或砂屑进入主轴内部引起主轴轴承的损坏。

    

6. 机床电器控制系统：

   1）机床设计，具有手动、半自动循环及自动循环等功能。

   2）人机液晶屏触控操作与设置界面，权限管理。

   3）下置散热电器柜，结构紧凑，维修方便。

   4）进口品牌PLC及电器元器件，保证长效工作。

   5）机床配置电路稳压滤波等装置。

    

7. 安全、粉尘防护与排泄系统：

   1）操作台面独立照明系统。

   2)   机床具有过载、断电保护措施，附故障报警装置。

   3） 电器元件均设置热保护、磁保护，并耐-12℃的低温潮湿环境。

   4） 自动启动采用双手启动按钮控制，急停按钮设置。

   5） 床防护采用全封闭防护罩方式，工人操作部位的防护罩采用透明材料，便于操作观察，保证切屑不落地，油、气不飞溅，无泄露，不污染环境，易清理。

   6）  试件抛光部位压缩跟踪排泄，防止磨料二次污染，下置吸尘屑斗主动排屑。

    

主要电气品牌

其余配备

沙带橡胶轮更换备件

多组砂带盘

碳化硅砂带/氧化铝砂带（多种目数配置）

建议配备三工位以防止不同砂粒互相污染，并减少更换砂带的频次，通常抛光三道可达到粗糙度 Ra 0.2-0.3μm